Лампа для сушки фотополимера

Fri, 03 Jul 2026 08:35:12 +0800

На этапе литографии даже небольшое отклонение в полуградусе во время процедур мягкой или жесткой обработки не является просто числом в таблице данных. Это проявляется в изменениях толщины слоя фоторезиста, слабом сцеплении его со субстратом, а также в снижении качества продукции после процедуры этичинга. Мы разработали специальные лампы для обработки фоторезиста, которые помогают устранить такие отклонения, чтобы процесс оставался стабильным при обработке каждого отдельного кристалла.

Что действительно важно Мы используем излучатели в инфракрасном диапазоне с точным контролем спектра, что позволяет напрямую нагревать фоторезист. Это сокращает время нагрева и обеспечивает более быстрый и стабильный тепловой эффект. На всей площади зоны нагрева однородность температуры на уровне кристалла составляет ±0,1°C, а повторяемость параметров сохраняется в пределах допустимых значений даже после тысяч циклов обработки. Устройство подходит для использования в чистых комнатах класса 1–100. Мы также контролируем отсутствие частиц на границе контакта между фоторезистом и субстратом. Устройство разработано для круглосуточной работы; устройства, используемые в производстве, могут работать более 5 000 часов без снижения качества работы.

Лампа для мягкой обработки фоторезиста

Fri, 26 Jun 2026 04:52:37 +0800

На этапе литографии не следует рассматривать процедуру мягкой обработки как простую разминку перед основной обработкой. Это важный термический этап, который позволяет зафиксировать содержание растворителя в фотополимере и обеспечить надежное прилипание фотополимера к поверхности кристалла. Даже небольшое изменение температуры на 1°C или наличие „холодных точек“ в области освещения может привести к снижению точности контроля размеров кристалла. Также увеличивается шероховатость линий на поверхности кристалла, что приводит к появлению дефектов.

Что имеет техническое значение Мы используем лампы НИР для мягкой обработки, потому что они обеспечивают высокую однородность температурного поля на уровне субмиллиметров. Геометрия кварцево-галогенового излучателя и конструкция отражателей такие, что температурный профиль соответствует форме кристалла, а не форме нагревателя. Таким образом можно сохранять однородность температуры на уровне ±0,1°C, а также обеспечивать высокую воспроизводимость результатов при производстве разных партий продукции. Это достигается благодаря стабильной мощности лампы и возможности воспроизведения температурного профиля.

Фоторезист on The Infrared Heating Company

Лампа для сушки фотополимера

Лампа для мягкой обработки фоторезиста