<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotorezist on The Infrared Heating Company</title>
		<link>http://ir-heat-co.com/tr/tags/fotorezist/</link>
		<description>Recent content in Fotorezist on The Infrared Heating Company</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>tr</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 08:35:13 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-co.com/tr/tags/fotorezist/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Fotorezist pişirme lambası</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/tr/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 08:35:13 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/tr/posts/photoresist-baking-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Fotorezist pişirme lambası&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Litografide, yumuşak pişirme veya sert pişirme işlemleri sırasında meydana gelen yarım derecelik sapmalar, tablolardaki sayılar olarak görünmez. Bu sapmalar, çizgi genişliklerinde değişiklikler, zayıf yapışma ve aşındırma sonrasında verimlilikte düşüş şeklinde kendini gösterir. Biz de bu tür değişkenlikleri ortadan kaldırmak için fotoresist pişirme lambalarını geliştirdik; böylece her wafer için işlem standartlarda kalır.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Arka planda önemli olan şeyler&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Sıkı spektral kontrolü olan NIR &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;vericiler&lt;/a&gt; kullanarak fotoresisti doğrudan ısıtıyoruz. Bu sayede substratın tepki süresi azalır ve daha hızlı, daha düzenli bir ısıl tepki elde edilir. Pişirme bölgesinde waferler arasındaki uyumluluk ±0,1°C civarında olur ve binlerce döngü boyunca tekrarlanabilirlik aynı toleranslar içinde kalır. Bu cihazlar Class 1–100 temiz oda koşullarına uygundur ve arayüzde hiçbir parçacık oluşmadığından emin oluyoruz. Cihaz, 24/7 çalışacak şekilde tasarlanmıştır; saha üniteleri 5.000 saatten fazla çalışabilir ve verimlilik sabit kalır.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Foto direnç yumuşatma fırını lambası</title>
				<link>http://ir-heat-co.com/tr/posts/photoresist-soft-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 04:52:38 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-co.com/tr/posts/photoresist-soft-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-co.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Foto direnç yumuşatma fırını lambası&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Litografi işlemlerinde, “yumuşak fırınlama” adımını sadece bir ısınma işlemi olarak görmeyin. Bu adım, çözücü içeriğini sabitleyen ve fotoresistin yüzeye yapışmasını sağlayan bir ısıtma işlemidir. Eğer wafer üzerinde 1°C’lik bir sıcaklık farkı olursa veya lambanın ısı dağılımında düzensizlikler meydana gelirse, kritik boyut kontrolü bozulur. Hat genişliğindeki dalgalanmalar artar ve kusurlar ortaya çıkar.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;&lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;Teknik&lt;/a&gt; Açıdan Önemli Olanlar&lt;/strong&gt;&#xA;Yumuşak fırınlama işlemleri için NIR lambalar kullanılır; çünkü bunlar termal alanda milimetre altı düzeyde bir birlik sağlarlar. Kuvars-halojen emisörlerinin geometrisi ve yansıtıcı yapılar, ısı profilinin ısıtıcıya değil de wafere uyum sağlamasını sağlayacak şekilde ayarlanmıştır. Fırınlama yüzeyinde waferin sıcaklığı ±0,1°C civarında tutulabilir ve lambanın çıkış gücü sabit olduğundan üretim süreçleri tekrarlanabilir.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
