На виробничій лінії навіть незначна зміна температури у розмірі 0,5°C під час сушіння фотополімеру може призвести до того, що велика кількість продукції стане непридатною для використання. Рештки вологи? Саме вони спричиняють появу дефектів на поверхні пластини – наприклад, бугорків чи інших аномалій. Ці дефекти проявляються пізно, але завдають значних збитків вже на початкових етапах виробництва. Ми створили спеціальну лампу для видалення вологи з пластин, щоб усунути цей фактор, саме там, де пластина контактує з теплом.
Що є важливим з технічної точки зору
Це пристрій на основі короткохвильового інфрачервоного світла, призначений для швидкого нагрівання поверхні пластини. Рівномірність температури по всій поверхні пластини залишається в межах ±0,1°C. Повторюваність результатів контролювання забезпечується за допомогою спеціальних методів, а не просто на основі припущень. Пристрій може функціонувати в чистих приміщеннях класу 1–100; його оптичний шлях є герметичним, а матеріали, з яких він складається, мають низький рівень випаровування, що дозволяє уникнути збільшення кількості частинок у приміщенні. Ефективність пристрою залишається стабільною протягом понад 5 000 годин – зниження ефективності становить менше 5%. Таким чином, температурний режим не змінюється протягом усього періоду роботи.
Чому цей пристрій ефективний саме там, де це необхідно
Цей пристрій допомагає видалити вологу ще до початку процесу сушіння, а також під час нього. Він підтримує як процес м’якого, так і жорсткого сушіння, з можливістю контролю параметрів процесу. Швидка реакція пристрою дозволяє скоротити час сушіння та зберегти критичні розміри пластини в межах допусків. Це дозволяє краще контролювати розміри пластини, менше витрачати ресурси на корекцію процесу та економити енергію. Пристрій розроблений відповідно до міжнародних стандартів обладнання для виробництва полімерів, і його можна використовувати без необхідності переоснащення всієї лінії.
Кілька практичних порад
Під час встановлення необхідно забезпечити сумісність інтерфейсу пристрою, системи живлення та захисних механізмів з уже наявною установкою. Необхідно також підтримувати чистоту оптичних елементів пристрою та враховувати теплове навантаження при проектуванні приміщення для роботи пристрою. Таким чином можна уникнути змін рівномірності температури під час роботи пристрою на високій потужності. Краще проводити заміну пристрою під час планового технічного обслуговування та налаштовувати параметри пристрою відповідно до характеристик фотополімеру та структури плівки.