Лампочка on The Infrared Heating Company

Інфрачервона лампа з золотим відбивачем

Mon, 20 Jul 2026 11:33:12 +0800

Припиніть нагрівати всю машину – краще нагрівати лише ті деталі, які потрібно обробити. Більшість інфрачервоних ламп просто поширюють тепло в усіх напрямках. Вони випромінюють тепло на 360 градусів, що є серйозною проблемою під час роботи всередині компактного корпусу напівпровідникового пристрою. Замість того, щоб тепло потрапляти на об’єкт обробки, воно потрапляє на внутрішні стінки корпусу. Це призводить до утворення „гарячих точок“, які можуть пошкодити електроніку чи, ще гірше, спалити людину, яка керує пристроєм.

Ми знайшли кращий спосіб. Ми поєднуємо лампу короткохвильового інфрачервоного світла з відбивачем з чистого золота.

Дешева лампочка для сушіння ваферів

Thu, 25 Jun 2026 04:37:49 +0800

На цеху з літографії відхилення температури на рівні 2°C під час процедури висушування фотополімеру є не просто похибкою – це пряма причина виникнення дефектів на кристалі. Етапи висушування та обробки кристалів мають враховувати тепловий баланс процесу, а не параметри, передбачені для обслуговування обладнання. Ми розробили лампи для висушування кристалів таким чином, щоб вони відповідали цим вимогам: низька вартість, але висока точність.

Що є важливим з технічної точки зору
Лампа містить галогенний елемент короткої довжини хвилі, який знаходиться всередині кварцового корпусу. Це забезпечує швидку та стабільну роботу у інфрачервоному діапазоні під час процедур висушування та обробки кристалів. Рівномірність температури на поверхні кристалу становить ±0,1°C, тож критичні розміри залишаються в межах допустимих значень. Кількість частинок, які утворюються під час роботи лампи, є мінімальною, що дозволяє підтримувати рівень чистоти у класі 1–100. Лампа працює на стандартних напругах, підходить до стандартних розеток, а її продуктивність залишається стабільною протягом 5 000 годин – зниження продуктивності становить менше 5%.

Світлодіодний випромінювач у ближньому інфрачервоному діапазоні (NIR)

Tue, 09 Jun 2026 03:29:54 +0800

On the fab floor, a 0.2°C drift in the photoresist bake isn’t a small deviation. It’s a scrapped lot. Wafer-level thermal uniformity sets the linewidth control, and the thermal budget has to be exact—every run.

What matters, technically

Our near infrared (NIR) emitter bulbs give you sub-millimeter heat localization and a thermal field that’s stable and repeatable. We tune the spectrum to match absorption in the photoresist and substrate stack, so the energy lands where it needs to—without cooking the surrounding hardware. The response is fast, which makes closed-loop control tighter. We hold wafer-plane uniformity to tight tolerances, and output stability stays better than 1% over thousands of hours. Cleanroom-compatible materials and construction keep particle generation low, so you’re not fighting yield in Class 1–100 environments.