http://ir-heat-co.com/uk/tags/bake/ Recent content in Bake on The Infrared Heating Company Hugo uk Wed, 01 Jul 2026 12:33:47 +0800 http://ir-heat-co.com/uk/posts/polyimide-bake-infrared-lamp/ Wed, 01 Jul 2026 12:33:47 +0800 http://ir-heat-co.com/uk/posts/polyimide-bake-infrared-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-co.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Інфрачервона лампа для випалювання полііміду"></p> <p>На поверхні для літографії поліімідний фотопрезист не може витримувати такий рівень теплового контролю, який можливий при використанні звичайних ламп. Навіть незначне збільшення температури на півградуса призводить до зміни товщини фотопрезисту, а надмірно висока температура залишає сліди після процедури етчингу. Вам потрібна температура, яку можна точно контролювати – швидке нагрівання, висока точність повторюваності, а також обладнання, яке буде функціонувати у чистій кімнаті без утворення частинок.</p> <p>Ось що є важливим у цьому процесі. Наші інфрачервоні лампи для нагрівання полііміду використовують короткочастотні випромінювачі, налаштовані на поглинання світла поліімідом. Це дозволяє досягти швидкого нагрівання без контакту, з мінімальною тепловою інерцією. Рівномірність температури на рівні пластини становить ±0,1°C, а точність повторюваності – ±0,2°C. Ці лампи працюють у чистих кімнатах класу 1–100 без утворення частинок, що підтверджується безпосередніми вимірюваннями. Робоча потужність залишається стабільною протягом 5 000+ годин, з допуском менше 5%, а система розроблена для цілодобової роботи з контрольованим охолодженням, що дозволяє зберегти тепловий баланс.</p> http://ir-heat-co.com/uk/posts/photoresist-soft-bake-lamp/ Fri, 26 Jun 2026 04:52:39 +0800 http://ir-heat-co.com/uk/posts/photoresist-soft-bake-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-co.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Лампа для м якого випалювання фоторезисту"></p> <p>На цеху з літографією не варто сприймати процедуру „м’якого випалювання“ як простий попередній крок у процесі обробки. Це насправді тепловий етап, який забезпечує стабільний рівень розчинника та ефективне прилипання фоточутливого шару до поверхні пластини. Навіть незначна зміна температури – на 1°C – може призвести до порушення контролю за розмірами елементів пластини. Також може зрости шорсткість поверхні ліній, а це, у свою чергу, призводить до появи дефектів.</p> <p><strong>Що є важливим з технічної точки зору</strong><br> Ми використовуємо лампи НІР для процедури „м’якого випалювання“, оскільки вони забезпечують однорідність температурного поля на рівні менше міліметра. Геометрія кварцово-галогенових емітерів та конструкція відбивачів також оптимізовані так, щоб температурний профіль відповідав формі пластини, а не формі нагрівача. На поверхні пластини можна підтримувати однорідність температури на рівні ±0,1°C. Повторюваність результатів залишається високою, оскільки вихідна потужність лампи є стабільною, а температурний профіль можна відтворити знову та знову.</p>