http://ir-heat-co.com/zh/tags/%E7%A7%BB%E9%99%A4%E6%90%AC%E7%A6%BB%E5%BC%80%E9%99%A4/ Recent content in 移除；搬离；开除 on The Infrared Heating Company Hugo zh Mon, 22 Jun 2026 23:26:53 +0800 http://ir-heat-co.com/zh/posts/wafer-moisture-removal-lamp/ Mon, 22 Jun 2026 23:26:53 +0800 http://ir-heat-co.com/zh/posts/wafer-moisture-removal-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-co.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="晶圆除湿灯"></p> <p>在晶圆加工过程中，如果光刻胶在烘烤时的温度变化达到0.5°C，那么就会导致大量晶圆报废。而残留的水分则会导致各种缺陷的产生，<a href="https://o-yate.net">比如晶圆表</a>面出现瑕疵、图案变形等问题。这些缺陷往往在后期才会显现出来，但会给生产带来很大损失。我们设计的晶圆除湿装置可以消除这些变量，确保晶圆在加热过程中的温度稳定。</p> <p><strong>从技术角度来看，<a href="https://o-yate.com">重要的是什</a>么？</strong> 这种装置采用短波红外石英-卤素设计，能够实现快速且均匀的加热效果。在整个晶圆表面上，温度均匀性<a href="https://henruite.com">可保持在</a>±0.1°C范围内，而且其重复性也相当高。该装置可在1级到100级的洁净室中使用，其光学路径是密封的，同时使用的材料也能有效减少颗粒物的产生。其输出功率在5,000小时以上仍能保持稳定，降幅不到5%，这样就能避免因温度波动而导致的工艺问题。</p>