Di proses litografi, penyimpangan sebesar setengah derajat selama proses pemanasan tidak bisa dianggap sebagai angka biasa dalam spreadsheet. Penyimpangan tersebut berdampak pada perubahan ketebalan lapisan fotorezist, adhesi yang lemah, serta penurunan kualitas hasil etching. Kami merancang lampu pemanas fotorezist sedemikian rupa sehingga variasi termal tersebut dapat dikendalikan, sehingga prosesnya tetap sesuai standar, dari wafer ke wafer lainnya.
Yang penting dalam proses ini Kami menggunakan sumber cahaya NIR dengan kontrol spektral yang ketat untuk memanaskan fotorezist secara langsung. Hal ini mengurangi waktu pemanasan dan memberikan respons termal yang lebih cepat dan efektif. Di area pemanasan, tingkat keseragaman suhu di antara wafer-wafer tetap berada dalam kisaran ±0,1°C, dan tingkat repetibilitasnya tetap stabil meski proses dilakukan ribuan kali. Alat ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dan kami memastikan bahwa tidak ada partikel yang terbentuk di antarmuka alat tersebut. Alat ini dirancang untuk digunakan 24/7, dengan masa pakai yang mencapai 5.000 jam, tanpa penurunan kualitas hasilnya.
Mengapa hal ini penting dalam proses fotorezist Proses pemanasan lembut bertujuan untuk menstabilkan viskositas fotorezist dan menghilangkan pelarutnya. Sedangkan proses pemanasan keras bertujuan untuk memastikan lapisan fotorezist tetap stabil sebelum dilakukan proses etching. Dengan penggunaan lampu ini, profil pemanasan menjadi lebih konsisten di seluruh batch produksi, sehingga defek dan kebutuhan untuk melakukan proses ulang pun berkurang. Hasilnya adalah kontrol ketebalan lapisan yang lebih baik, integritas lapisan yang lebih baik, serta perilaku yang dapat diprediksi selama proses etching. Proses pemanasan berlangsung cepat tanpa adanya penyimpangan suhu yang signifikan, sehingga penggunaan energi pun berkurang. Masa pakai lampu yang panjang juga berarti kebutuhan akan suku cadang dan waktu perawatan yang lebih sedikit.
Rincian teknis Lampu-lampu ini dapat digunakan dalam jalur proses pelapisan/pemanasan yang sudah ada. Namun, perlu dipastikan bahwa posisi lampu sesuai dengan jalur pergerakan wafer dan geometri ruang pemanasan saat pemasangan. Diperlukan waktu singkat untuk menyetel waktu pemanasan, intensitas cahaya, dan pola suhu sesuai dengan resep produksi tertentu. Pastikan tegangan pengoperasian berada dalam rentang yang ditentukan; jika melebihi batas tersebut, maka keseragaman suhu dan masa pakai lampu akan berkurang secara signifikan.