제조 현장에서는, 소프트 베이크나 하드 베이크 과정에서는 정밀도를 유지하는 것이 매우 중요합니다. 2도만의 온도 변동도 제품의 치수에 영향을 줄 수 있으며, 미세한 입자들도 전체 생산량에 악영향을 미칠 수 있습니다. 이러한 문제들을 해결하기 위해, 우리는 공정이 요구하는 엄격한 조건에 부합하는 듀얼 튜브형 적외선 가열기를 개발했습니다.
중요한 것은 간단합니다. 듀얼 튜브 구조 덕분에 단파 적외선이 특정 영역에 집중되어, 매우 빠르고 효율적인 가열이 가능해집니다. 또한, 웨이퍼 전체의 온도 균일성은 ±0.1°C 이내로 유지되므로, 사진감광제가 일관된 성능을 발휘할 수 있습니다.
클린룸 환경도 설계 단계에서 고려됩니다. 석영 커버와 밀폐된 연결부 덕분에 입자 수를 효과적으로控制할 수 있으며, 가열 과정에서는 가스 방출이 전혀 없습니다. 5,000시간 이상 사용해도 출력의 안정성이 유지되며, 강도의 변동도 5% 미만입니다. 따라서 리소그래피 장비 전체에서의 열 관리가 일관적으로 이루어집니다.
실제로 이 방식이 효과적인 이유는 간단합니다. 정밀한 소프트 베이크 과정을 통해 웨이퍼의 형태 변화를 최소화할 수 있고, 선단부의 거칠기도 줄어듭니다. 하드 베이크 과정에서는 재작업을 줄이고 수율을 보호할 수 있습니다. 빠른 가열 속도 덕분에 처리 시간이 단축되면서도 온도 정확도는 유지됩니다. 또한, 집중된 적외선 스펙트럼 덕분에 에너지 소비가 줄어들어 웨이퍼당 운영 비용도 절감됩니다. 대량 생산 환경에서는 이러한 신뢰성 덕분에 예기치 않은 정지나 유지보수가 줄어들어 계획적인 작업이 가능해집니다.
설치 시 반드시 고려해야 할 사항들이 있습니다. 광학적 정렬이 정확해야 하며, 인접한 부품들에 전자기 간섭이 생기지 않도록 독립적인 전력 공급 시스템이 필요합니다. 또한, 특정 반사체 구조와 함께 사용될 때 가열기의 성능이 최적화됩니다. 반사체를 교체할 경우, 다시 교정하지 않으면 온도 균일성이 0.2–0.3°C 정도 변할 수 있습니다.
램프를 교체한 후에는 짧은 시간 동안 가동하여 설정값을 다시 ±0.1°C로 맞춰주는 것이 좋습니다.