Mengapa Pemanasan Inframerah Lebih Baik Daripada Pemanasan Udara Panas untuk Proses Pengolahan Wafer
Jika anda sedang mempertimbangkan untuk beralih daripada penggunaan udara panas kepada pemanasan inframerah dalam proses pengolahan wafer, jangan anggapnya sebagai cara untuk mendapatkan peralatan yang lebih baik sahaja. Anggaplah ia sebagai cara untuk menjimatkan masa.
Pemanasan udara panas merupakan kaedah yang lambat. Ia menggunakan prinsip konveksi, di mana udara dipanaskan terlebih dahulu, dan kemudian udara tersebut digunakan untuk memanaskan wafer. Sentiasa ada kelewatan dalam proses ini. Sebaliknya, pemanasan inframerah menggunakan tenaga radiasi untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung.
Ia sangat cepat.
Dengan penggunaan udara panas, kita perlu menunggu sehingga seluruh ruang pencelupan mencapai suhu tertentu sebelum wafer dapat distabilkan. Ini merupakan proses yang lambat. Namun, dengan lampu inframerah, prosesnya hampir serta-merta. Inilah sebabnya mengapa ia sering digunakan dalam proses pengolahan termal yang cepat (RTP). Dengan cara ini, kita dapat mencapai suhu yang diinginkan dalam masa beberapa saat sahaja, bukan minit-minit. Dengan demikian, masalah kelewatan dalam proses pengolahan wafer dapat diatasi.
Selain itu, masalah konsistensi juga perlu diperhatikan. Kaedah konveksi menyebabkan adanya kawasan yang sejuk, atau bahkan turbulensi yang boleh mengganggu proses pemindahan haba pada wafer. Pemanasan inframerah membolehkan kita mengawal aliran haba dengan lebih baik. Kita boleh mengawal setiap lampu secara berasingan, sehingga masalah kehilangan haba pada bahagian tepi wafer dapat diatasi. Akibatnya, profil haba pada permukaan wafer akan menjadi lebih seragam.
Namun, penggunaan pemanasan inframerah bukanlah sesuatu yang mudah. Ia memerlukan tenaga yang besar. Oleh itu, sistem penyejukan dan sensor perlu berfungsi dengan baik. Jika litar PID tidak disetkan dengan betul, suhu wafer mungkin akan melebihi had yang ditetapkan, dan ini boleh merosakkan wafer tersebut.
Anda tidak boleh sekadar memasukkan lampu inframerah ke dalam sistem konveksi dan menganggapnya sudah cukup. Anda perlu mengira beban haba pada semua komponen yang ada di sekelilingnya terlebih dahulu.
Namun begitu, bagi mereka yang ingin meningkatkan jumlah wafer yang dapat diproses setiap jam, pemanasan inframerah merupakan pilihan yang terbaik. Ia membolehkan proses pengolahan wafer dilakukan dengan lebih cepat dan tepat.