На этапе литографии отклонение температуры на уровне 2°C во время процедуры высушивания фотополимера — это не просто небольшая погрешность; это прямой путь к возникновению дефектов на кристаллах. На этапах высушивания и обработки Wafer необходимо соблюдать определенные тепловые параметры процесса, а не те параметры, которые указаны в руководствах по эксплуатации оборудования. Мы спроектировали лампы для высушивания Wafer таким образом, чтобы они соответствовали этим требованиям: низкая стоимость, но при этом высокая точность.
Что имеет значение с технической точки зрения? Лампа использует галогеновый элемент с коротковолновым излучением, расположенный в кварцевом корпусе. Это обеспечивает быструю и стабильную работу в инфракрасном диапазоне, что необходимо для процедур высушивания и последующей обработки Wafer. Температурное равномерие по всей поверхности Wafer составляет ±0,1°C, что позволяет сохранять критически важные размеры в заданных пределах. Образование частиц практически отсутствует, что сохраняет уровень чистоты в помещении класса 1–100. Лампа работает от стандартных напряжений, может быть установлена в любые типичные разъемы, а ее мощность остается стабильной даже после 5 000 часов работы — снижение мощности составляет менее 5%.
Почему это работает в производстве? В производстве необходима повторяемость процессов. Эта лампа сохраняет температуру на постоянном уровне в течение 24/7, поэтому процедуры высушивания и обработки могут выполняться одинаково каждый раз. Такая стабильность снижает количество браков и необходимости переработки продукции. Кроме того, это сокращает время подготовки оборудования, увеличивает производительность и снижает энергопотребление. Замена лампы происходит быстро, поэтому нет неplanовых перерывов в производстве. Вы тратите меньше денег на лампы и меньше времени на устранение ошибок.
Что нужно учитывать? Лампа предназначена для использования в условиях сухого, фильтрованного воздуха и для установки в помещениях высокой чистоты. Она не подходит для использования в процессах с использованием влажного воздуха или в агрессивных средах. Необходимо соответствовать типу разъема и геометрии рефлектора — в противном случае температурное равномерие может нарушаться на краях Wafer. Если все настроено правильно, лампа может быть использована в существующем оборудовании с минимальными изменениями, обеспечивая необходимое тепловое регулирование для процесса.