V prostředí výroby čipů se rychle učíte: i půl stupně odchylky teploty při zahřívání může způsobit rozptyl kritických rozměrů v celé várce. Mírné a...

V prostředí litografie stačí odchylka o 1 °C během procesu měkkého zahřívání fotorezistu k tomu, aby se změnily kritické rozměry a celá série výrobků...