למה אנו משתמשים בייבוש באמצעות קרינת אינפרא-אדום לחומרים מוליכים ללא עופרת
כאשר מייצרים חיישני MEMS, הדבר האחרון שרוצים זה גוף העבודה מוזוהם. יש צורך שהוואפר יהיה יבש ונקי. לכן אנו משתמשים בייבוש באמצעות קרינת אינפרא-אדום. שיטה זו מסלקת את הלחות והחומרים הממסים, בלי צורך בתוספים כימיים מסובכים או בקטליזטורים המבוססים על עופרת. זו פשוט אנרגיה ישירה שעושה את העבודה.
איך זה עובד בפועל
חשבו על תנור רגיל – הוא מחמם את האוויר, והאוויר מחמם את החלקים. זה איטי. קרינת אינפרא-אדום שונה – היא פוגעת ישירות במולקולות המים או החומרים הממסים שנמצאים על הוואפר.
אנו משתמשים בקרינת אינפרא-אדום באורך גל קצר עבור חיישני MEMS. הקרינה חודרת במהירות את שכבות הפנים של הוואפר, מה שגורם לאידוי מהיר של החומרים הממסים. זה מאוד חשוב, כיוון שזה מונע את התופעה שבה החלק העליון של הוואפר מתייבש מהר מדי, והחומרים הממסים נשארים מתחתיו.
עמידה בסטנדרטים “ירוקים”
התעשייה עוברת לשימוש בחומרים ללא עופרת, ויש לכך סיבות טובות. שיטות ייבוש תרמיות מסורתיות דורשות לעתים קרובות קטליזטורים המבוססים על מתכות כבדות, כדי להוריד את הטמפרטורה לרמה הנדרשת.
עם קרינת אינפרא-אדום, אין צורך בכך. אנו משתמשים באנרגיה אור לצורך האידוי והקשרים הכימיים. אין פליטות של חומרים רעילים, והשיטה מתאימה באופן מושלם לסביבות נקיות, בלי לגרום לבעיות.
החסרונות שכדאי להכיר
כמובן, גירים בעלי עוצמת אנרגיה גבוהה יכולים לגרום לבעיות. צפיפות האנרגיה גבוהה מאוד, וזה טוב להאצת תהליך הייבוש. אך יש צורך לשלוט בהבדלי הטמפרטורה. אם הוואפר דק מדי, החום עלול לגרום לעיוות של הסיליקון. גילינו כי שימוש במקור אנרגיה בצורת אותות פולסטיים הוא הפתרון הטוב ביותר – זה שומר על טמפרטורת הוואפר בטווח של 5°C בלבד.
עוד דבר חשוב: אל תשכחו את מאווררי הקירור והמגנים. חום יכול להימלט מהמכשיר. אם המבנה של המכשיר אינו מבודד כראוי, הטמפרטורה בחדר הנקי עלולה לעלות, והאזעקות של מערכת האוורור יתחילו לצפצף. ודאו שמערכת הקירור של המפעל יכולה לעמוד בעומס האנרגיה שנכנסת למכשיר.