Di bilik proses litografi, bahan fotoresist berbahan poliimid tidak dapat bertahan terhadap kawalan suhu yang boleh dicapai menggunakan lampu biasa. Pemanasan yang perlahan sekalipun boleh menyebabkan ketebalan lapisan fotoresist berubah, manakala pemanasan yang berlebihan pula akan meninggalkan sisa-sisa selepas proses etching. Apa yang diperlukan ialah sistem pemanasan yang boleh diharapkan – dengan kelajuan pemanasan yang cepat, ketepatan yang tinggi, serta peralatan yang berfungsi dengan baik dalam suasana bilik bersih tanpa menambah partikel ke dalam proses pengeluaran.
Lampu inframerah yang digunakan untuk memanaskan bahan poliimid ini menggunakan pancaran gelombang pendek yang disesuaikan agar sesuai dengan sifat penyerapan bahan poliimid. Ini membolehkan pemanasan yang cepat dan tanpa sentuhan, dengan inersia haba yang rendah. Kecerdasan suhu pada setiap keping wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C, manakala ketepatan antara setiap pengeluaran pula kekal dalam lingkungan ±0.2°C. Lampu-lampu ini beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100, tanpa menghasilkan sebarang partikel, seperti yang telah disahkan secara langsung. Prestasi lampu ini kekal stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan penurunan prestasi kurang dari 5%. Sistem ini juga direka untuk beroperasi 24/7, dengan sistem penyejukan yang terkawal untuk memastikan keseimbangan suhu yang stabil.
Apa yang berlaku semasa proses pengeluaran? Anda akan mendapat kawalan dimensi yang lebih tepat, dan jumlah produk yang perlu diperbaiki akan berkurangan. Proses pemanasan yang perlahan dapat diselesaikan dalam beberapa saat sahaja, dan proses penghilangan pelarut juga dapat dikawal dengan baik. Pemanasan yang intensif akan memberikan kepadatan ikatan yang sesuai tanpa menyebabkan tekanan yang berlebihan, sekali gus mengurangkan risiko keretakan corak yang terbentuk. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana tenaga tersebut digunakan secara langsung untuk memanaskan bahan fotoresist, bukan untuk memanaskan ruang proses. Hasilnya ialah profil etching yang konsisten, jumlah bahan buangan yang berkurangan, dan jadual pengeluaran yang dapat dipatuhi.
Beberapa perkara penting yang perlu diambil kira sebelum memilih peralatan ini. Pemasangan perlu dilakukan dengan memastikan ukuran lampu dan cara penyambungannya sesuai dengan sistem pelapisan/penyinaran yang digunakan. Proses ujian pula memerlukan masa yang singkat, tetapi anda perlu menyesuaikan kadar pemanasan agar sesuai dengan jenis bahan fotoresist yang digunakan. Memandangkan intensiti cahaya NIR berubah mengikut jarak, jarak antara lampu dan bahan fotoresist perlu dikawal dengan teliti. Selain itu, penyesuaian berkala pada lampu serta pengendalian yang mematuhi standard bilik bersih juga penting untuk memastikan tiada peningkatan jumlah partikel.