Di bahagian litografi, jangan anggap proses “soft bake” sebagai langkah pemanasan semata-mata. Sebenarnya, ia merupakan langkah termal yang penting untuk memastikan kandungan pelarut tetap stabil dan memastikan daya lekat bahan photoresist juga stabil. Jika terdapat perbezaan suhu sebanyak 1°C pada permukaan wafer, atau adanya kawasan sejuk di kawasan lampu, maka kawalan dimensi yang tepat akan terjejas. Ketidakteraturan lebar garisan juga akan meningkat, dan kecacatan pun akan timbul.
Apa yang penting dari segi teknikal
Kami menggunakan lampu NIR untuk proses “soft bake” kerana ia dapat memberikan keseragaman suhu pada tahap sub-milimeter. Reka bentuk pengeluar cahaya jenis kuarsa-halogen serta sistem pemantulnya disesuaikan sedemikian rupa agar profil suhu mengikuti bentuk wafer, bukan heater. Pada permukaan wafer, keseragaman suhu dapat dikekalkan pada tahap ±0.1°C. Kekerapan pengulangan proses juga tetap tinggi kerana keluaran lampu stabil dan profil suhu dapat dipertahankan.
Keserasian dengan bilik bersih juga sangat penting. Dalam persekitaran kelas 1–100, tidak akan ada peningkatan jumlah zarah di sekitar lampu. Selain itu, reka bentuk peralatan juga dirancang agar tidak menghasilkan sebarang zarah semasa operasi.
Mengapa ia berkesan
Dalam fasiliti pengeluaran berskala besar, ketepatan proses “soft bake” sangat penting untuk memastikan kadar keluaran produk yang tinggi. Dengan penggunaan lampu NIR, wafer dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat, tanpa menjejaskan keseimbangan termal. Kawalan ketebalan bahan photoresist serta tingkah laku zarah-zarah di tepi wafer juga menjadi lebih dapat diramalkan. Ini seterusnya membantu mengurangkan pembaziran bahan mentah.
Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana lampu memanaskan wafer secara langsung, bukan udara di sekelilingnya. Kestabilan operasi pula dapat dilihat daripada masa operasi yang panjang – unit-unit ini telah beroperasi lebih dari 5,000 jam dengan penurunan keluaran kurang dari 5%. Dengan itu, masa henti yang tidak dirancang dapat dielakkan.
Perkara yang perlu diketahui
Lampu NIR untuk proses “soft bake” memerlukan cara pemasangan dan penyetelan yang tepat. Keseragaman keluaran cahaya bergantung pada jarak antara pengeluar cahaya dan wafer, serta keadaan reflektor. Oleh itu, sebarang pengubahsuaian perlu dilakukan agar sesuai dengan reka bentuk mekanikal peralatan tersebut. Lampu ini juga boleh digunakan dengan antaramuka standard. Namun, jika saiz plat pembakaran atau wafer berubah, profil suhu perlu disesuaikan semula. Selain itu, perlu juga merancang stok ganti untuk lampu tersebut agar proses pengeluaran dapat berjalan lancar.