Nel processo di litografia, un’oscillazione di mezzo grado durante la fase di essiccazione del fotoresist non rappresenta semplicemente un valore numerico negli archivi dei dati. Questo tipo di variazione si manifesta come variazioni nella larghezza delle linee tracciate dal fotoresist, scarsa adesione dello stesso al substrato, e una diminuzione della qualità del prodotto dopo l’etching. Abbiamo progettato le nostre lampade per eliminare queste variazioni, in modo che il processo rimanga all’interno dei parametri prestabiliti, wafer dopo wafer.
Cosa è importante nel funzionamento della lampada
Utilizziamo emettitori a illuminazione NIR con preciso controllo spettrale, che permettono di riscaldare direttamente il fotoresist. In questo modo si riduce il tempo necessario per raggiungere la temperatura desiderata, e si ottiene una risposta termica più rapida e precisa. In tutta l’area di essiccazione, l’uniformità della temperatura sulle singole pietre è pari a ±0,1°C; inoltre, la ripetibilità dei risultati rimane entro gli stessi limiti anche dopo migliaia di cicli. La lampada può essere utilizzata in ambienti puliti di classe 1–100; inoltre, verifichiamo assenza di particelle all’interfaccia tra la lampada e il fotoresist. È progettata per funzionare 24/7: le unità in uso riescono a funzionare per oltre 5.000 ore senza perdita di efficienza.
Perché è importante nel processo di trattamento del fotoresist
La fase di essiccazione “soft” serve a stabilizzare la viscosità del fotoresist e ad eliminare i solventi presenti in esso; invece, la fase di essiccazione “hard” serve a fissare la struttura del film prima dell’etching. Con queste lampade, si ottengono profili di essiccazione uniformi su tutto il lotto di prodotto, riducendo così i difetti e i ricorsi al rifacimento del lavoro. I vantaggi sono rappresentati da un miglior controllo della concentrazione delle linee tracciate, da una migliore integrità del film, e da un comportamento prevedibile durante l’etching. Inoltre, la velocità di stabilizzazione termica è elevata, con minimi valori di sovrapposizione termica; quindi si riduce il consumo energetico. Una lunga durata delle lampade significa inoltre meno ricambi e meno interventi di manutenzione.
I dettagli pratici
Queste lampade possono essere integrate nei normali sistemi di applicazione e essiccazione del fotoresist. Tuttavia, è necessario verificare l’allineamento con il percorso della pietra e con la geometria della camera di essiccazione durante l’installazione. È necessario effettuare una breve fase di collaudo per impostare tempi di permanenza, intensità luminosa e parametri di temperatura appropriati per il proprio processo di produzione. È importante mantenere la tensione entro i limiti indicati: altrimenti, l’uniformità e la durata delle lampade ne risentono negativamente.