Di bahagian proses litografi, perubahan sudut sebanyak setengah darjah semasa proses memanaskan bahan fotoresist bukanlah angka yang boleh dilihat dalam spreadsheet. Perubahan ini akan menyebabkan variasi ketebalan garis gambar, daya lekat yang lemah, serta penurunan kualiti hasil pengeluaran selepas proses etching. Kami telah mereka bentuk lampu pengeringan fotoresist agar dapat mengurangkan variasi tersebut, supaya proses pengeluaran tetap berjalan dengan lancar, dari satu wafer ke wafer yang lain.
Apa yang penting di sebaliknya
Kami menggunakan pengeluarkan cahaya jenis NIR dengan kawalan spektrum yang tepat, untuk memanaskan bahan fotoresist secara langsung. Ini membantu mengurangkan kelewatan dalam proses pemanasan, dan memberikan tindak balas termal yang lebih cepat serta lebih baik. Di kawasan pemanggangan, keseragaman suhu pada setiap wafer kekal pada tahap ±0.1°C, dan kebolehulangan proses tetap berada dalam julat yang ditetapkan walaupun setelah ribuan kali proses dilakukan. Alat ini sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dan kami memastikan bahawa tidak ada zarah yang terbentuk di antara alat tersebut dengan bahan fotoresist. Alat ini direka untuk digunakan 24/7, dengan unit yang digunakan mampu bertahan lebih dari 5,000 jam tanpa masalah.
Mengapa ini penting dalam proses pengeluaran fotoresist
Proses memanaskan bahan fotoresist bertujuan untuk menstabilkan viskositinya dan menghilangkan bahan pelarutnya. Proses memanaskan yang lebih intensif pula bertujuan untuk “mengunci” lapisan fotoresist sebelum proses etching dilakukan. Dengan menggunakan lampu ini, profil pemangganan akan menjadi lebih konsisten, sehingga kecacatan dan kerja ulang dapat dikurangkan. Hasilnya ialah kawalan diameter cakera yang lebih baik, integriti lapisan fotoresist yang lebih baik, serta tingkah laku yang boleh diramalkan semasa proses etching. Penyesuaian suhu berlaku dengan cepat, tanpa adanya penyimpangan yang ketara, sehingga penggunaan tenaga dapat dikurangkan. Jangka hayat lampu yang panjang juga bermakna keperluan untuk alat ganti dan waktu penyelenggaraan menjadi berkurangan.
Butiran praktikal
Lampu ini boleh digunakan dalam sistem pengeringan biasa, tetapi perlu dipastikan bahawa ia disusun dengan betul mengikut laluan wafer dan geometri bilik pemanggangan semasa pemasangan. Anda perlu melakukan ujian pendek untuk menetapkan masa pemanggangan, intensiti cahaya, dan suhu yang sesuai untuk proses pengeluaran anda. Pastikan voltan yang digunakan berada dalam julat yang ditetapkan; jika tidak, keseragaman dan jangka hayat lampu akan terjejas.