На этапе литографии даже небольшое отклонение в полуградусе во время процедур мягкой или жесткой обработки не является просто числом в таблице данных. Это проявляется в изменениях толщины слоя фоторезиста, слабом сцеплении его со субстратом, а также в снижении качества продукции после процедуры этичинга. Мы разработали специальные лампы для обработки фоторезиста, которые помогают устранить такие отклонения, чтобы процесс оставался стабильным при обработке каждого отдельного кристалла.
Что действительно важно Мы используем излучатели в инфракрасном диапазоне с точным контролем спектра, что позволяет напрямую нагревать фоторезист. Это сокращает время нагрева и обеспечивает более быстрый и стабильный тепловой эффект. На всей площади зоны нагрева однородность температуры на уровне кристалла составляет ±0,1°C, а повторяемость параметров сохраняется в пределах допустимых значений даже после тысяч циклов обработки. Устройство подходит для использования в чистых комнатах класса 1–100. Мы также контролируем отсутствие частиц на границе контакта между фоторезистом и субстратом. Устройство разработано для круглосуточной работы; устройства, используемые в производстве, могут работать более 5 000 часов без снижения качества работы.
Почему это важно при обработке фоторезиста Процедура мягкой обработки направлена на стабилизацию вязкости фоторезиста и удаление растворителей; процедура жесткой обработки позволяет зафиксировать структуру фильма перед процедурой этичинга. Благодаря этим лампам достигается однородная обработка всего объема фоторезиста, что снижает количество дефектов и необходимости переработки. Это способствует лучшему контролю параметров фильма и его стабильной работе в процессе этичинга. Быстрое нагревание с минимальными отклонениями позволяет сократить потребление энергии. Длительный срок службы ламп также снижает необходимость в запасных частях и времени на техническое обслуживание.
Практические детали Эти лампы можно использовать в стандартных установках для нанесения и обработки фоторезиста. Однако при установке необходимо убедиться в правильности расположения ламп по отношению к кристаллу и геометрии камеры для обработки. Потребуется небольшой период настройки для определения времени нагрева, интенсивности излучения и параметров температуры. Необходимо соблюдать указанный диапазон напряжения – в противном случае однородность и срок службы ламп быстро снизятся.