Hentikan Peralatan Pengeringan daripada Menjadi “Ketuhar” Jika anda pernah bekerja di kilang pemprosesan semikonduktor, pasti anda tahu masalah ini....

Bagaimana untuk mendapatkan hasil yang terbaik daripada proses penyembuhan wafer Ketika menyembuhkan wafer, matlamatnya sangat mudah: hantar sebanyak...

Mengurangkan Pelepasan Karbon di Kilang Pengeluaran Semikonduktor: Mengapa Sinar Inframerah Gelombang Pendek Adalah Cara yang Lebih Efektif untuk...

Cara yang betul untuk proses pengerasan menggunakan cahaya inframerah pada sensor hidrogen Ketika membina sensor hidrogen, proses pengeringan dan...

Hentikan Debu: Mengapa Lampu IR yang Dilapisi Emas Sangat Penting Dalam fasiliti pengeluaran yang beroperasi 24/7, apabila sebuah lampu rosak, ia...

Meningkatkan Kefungsian Mesin Anda Dengan Penggunaan Sinar Infra Merah Jika anda sedang membina “Smart Fab”, anda pasti sudah menyedari bahawa kaedah...

Hentikan amalan memanaskan seluruh bilik (dan juga peralatan yang digunakan). Jika anda pernah bekerja dengan ketuhar konveksi biasa di tempat...

Mengawal Suhu Dengan Betul Semasa Pembuatan Bio-Sensor Ketika membina bio-sensor, suhu memainkan peranan yang sangat penting. Anda memerlukan bahan...

Mengapa lampu berliang berlapis emas sangat penting untuk kilang pintar anda Jika anda sedang membina kilang pintar, anda pasti tahu betapa...

Melindungi Pemanas Inframerah Anda Semasa Proses Pembersihan Kimia Sejujurnya, menggunakan lampu inframerah di dalam bak pembersihan semikonduktor...

Mengawal Suhu Dengan Betul dalam Kilang Pemprosesan Moden Jika anda ingin membina kilang pemprosesan yang canggih, anda perlu tahu bahawa automasi...

Mengapa kita menggantikan penggunaan udara panas dengan teknologi IR dalam pembungkusan semikonduktor Jika anda bekerja dalam bidang pemprosesan...

Mengapa kita menggunakan kaedah pengeringan dengan sinar inframerah untuk semikonduktor bebas plumbum Ketika memproduksi sensor MEMS, perkara...

Melindungi Lampu di Bilik Bersih (dan Ruang Kerja Anda) Ketika bekerja di bilik bersih, kita tidak boleh membiarkan berlaku sebarang kesilapan....

Berhentilah memanaskan keseluruhan mesin tersebut, dan mulailah memanaskan bahagian-bahagian tertentu sahaja. Kebanyakan lampu inframerah hanya...

Mengapa Pemanasan Inframerah Lebih Baik Daripada Pemanasan Udara Panas untuk Proses Pengolahan Wafer Jika anda sedang mempertimbangkan untuk beralih...

Beralih kepada kaedah pengeringan menggunakan IR di kilang anda Ketika anda ingin mengganti peralatan yang digunakan di bilik bersih, anda perlu...

Ketika bekerja di bilik bersih kelas 100, proses pemanasan merupakan cabaran yang besar. Ia bukan sekadar untuk memanaskan bahan-bahan tersebut,...

Menjaga Kebersihan: Kebenaran tentang Lampu Quartz IR UHP Jika anda mengendalikan bilik bersih kelas 100, anda pasti tahu betapa sukarnya tugas...

Mengapa Penutup Seramik Sangat Penting untuk Emitter IR Anda Emiter IR menghasilkan haba yang sangat tinggi. Apabila berhadapan dengan tekanan haba...

Menghentikan pencemaran wafer sebelum ia bermula Dalam proses pengeluaran semikonduktor yang berskala besar, kerosakan pada tiub lampu bukan sekadar...

Menghentikan percikan api sebelum ia berlaku di kawasan pembersihan kimia Ketika bekerja dengan bahan kimia yang mudah terbakar di kilang, kita tidak...

Mengapa penggunaan pemanas inframerah dalam keadaan vakum merupakan cara yang terbaik untuk teknologi tanpa plumbum? Sejujurnya, ketuhar konvensional...

Mengapa perlu menunggu lagi dengan kaedah udara panas? Kebanyakan daripada kita sudah biasa dengan cara penggunaan udara panas untuk memanaskan...

Mengapa Perlindungan Kaca pada Lampu Fabrikasi Ini Bukan Sekadar Penghalang Panas Semata-Mata Kebanyakan orang hanya melihat lapisan kaca kuarsa pada...

Mengekalkan Wafer dalam Keadaan Bersih: Realiti Keselamatan Pemanas Jenis Trolley Di kilang pengeluaran semikonduktor yang beroperasi pada skala...

Hentikan penggunaan cara pemanasan dinding – gantikannya dengan cara pemanasan yang lebih efektif. Kebanyakan elemen pemanas membuang haba ke...

Cara untuk Mengelakkan Pemanas Iringan vakum daripada Meletup Faktor utama yang perlu diambil kira dalam persekitaran vakum ialah ia menyebabkan...

Cara yang Betul untuk Menggunakan Kabel PTFE dalam Penggunaan Pemanas Inframerah untuk Semikonduktor Jika kita ingin mengurangkan jejak karbon di...

Keselamatan adalah keutamaan. Tiada kompromi. Intinya adalah: ketika kami membuat pemanas berbentuk nanotube karbon ini, kami tidak mengambil jalan...

Pengenalan Inilah kenyataan sebenar dalam proses pemprosesan wafer: masa operasi yang stabil adalah segalanya. Jika proses pengeluaran terhenti,...

Pemanas inframerah berkuasa tinggi yang sesuai digunakan bersama sistem vakum Leybold anda Kami mencipta pemanas inframerah ini agar dapat...

Di bahagian proses litografi, perubahan sudut sebanyak setengah darjah semasa proses memanaskan bahan fotoresist bukanlah angka yang boleh dilihat...

Di bilik proses litografi, bahan fotoresist berbahan poliimid tidak dapat bertahan terhadap kawalan suhu yang boleh dicapai menggunakan lampu biasa....

Di lantai pengeluaran wafer, seseorang perlu belajar dengan cepat: perubahan suhu sebanyak setengah darjah saja sudah cukup untuk menyebabkan...

Di permukaan lantai, apabila pemanas RTP mula bergerak sedikit sebanyak, keseluruhan proses pembakaran akan terjejas. Pembakaran yang dilakukan...

Di bahagian litografi, jangan anggap proses “soft bake” sebagai langkah pemanasan semata-mata. Sebenarnya, ia merupakan langkah termal yang penting...

Di bahagian litografi, perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran bahan fotoresist bukan sekadar variasi biasa – ia merupakan punca utama...

Di bilik pemanggangan tersebut, kaedah pemanggangan jenis “soft bake” dan “hard bake” bukanlah cara yang sesuai untuk mendapatkan hasil yang...

Di bilik pembakaran fotorezist, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran boleh menyebabkan bahan yang telah diproses menjadi tidak...

Di dalam bilik pemprosesan semikonduktor, anda tahu betapa cepatnya suhu boleh berubah. Jika suhu diturunkan sebanyak 0.5°C sahaja, lebar garisan...

Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pemanasan bahan fotoresist sudah cukup untuk mengubah dimensi-criteria penting...

Pada garis panjang 300mm, had suhu yang boleh dicapai bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan – ia merupakan had yang tidak boleh dilanggar. Jika...

Di lantai fabrikasi, pergeseran 0.2°C dalam proses pembakaran fotoresist bukan sekadar penyimpangan kecil. Ia bermakna lot tersebut dibuang....

Out on the fab floor, barisan tepat sebelum pembungkusan adalah tempat anda boleh kehilangan margin tanpa menyedarinya. Satu titik kelembapan yang...

Di lantai fab, turun naik suhu sebanyak 0.3°C semasa pembakaran photoresist sudah cukup untuk membuang sebahagian besar hasil—sebelum proses etsa pun...

Di lantai pengeluaran, drift termal tidak muncul dengan label amaran. Anda melihatnya sebagai penyimpangan lebar garis pada trek, tepi kotor selepas...

Di lantai fabrik, wafer 300mm dipenuhi dengan ribuan die, dan anggaran terma adalah sesuatu yang sakral. Pergerakan 2°C semasa soft bake photoresist...

On the fab floor, an E-beam resist bake isn’t a warm-up. It’s a process anchor. Hit a 2°C drift on the hot plate, and your critical dimension bias...

Di lantai fabrikasi, profil pembakaran photoresist bukan sekadar cadangan—ia adalah peraturan keras. Perubahan 2°C semasa pembakaran lembut atau...

Di lantai fab, jam tidak melambat untuk sesiapa pun. Sel litografi menunggu giliran untuk proses pembakaran seterusnya, peralatan etsa terbiar...