プロフェッショナルな半導体製造装置用スペアパーツ

ファブフロアでは、フォトレジストのベークプロファイルは推奨事項ではなく、厳守すべき規則である。ソフトベークやハードベーク中の2℃の温度変動はクリティカルディメンションのバイアスを生じさせ、加熱中に1つの粒子が剥離するだけでウェハをスクラップにする可能性がある。熱ドリフト？それはスクラップとダウンタ...