ウエハの硬化処理を最大限に活用するために ウエハを硬化処理する際の目標は単純です。できるだけ多くの熱を基板上に与えることです。機械の筐体を温めるためにわずかな電力も無駄にしたくありません。そこで、金めっきされた反射板が使われます。これにより、通常なら筐体内に漏れてしまう赤外線が再び基板上に戻されま...

現代のファブで適切な温度管理を行うには スマートなファブを構築する際、自動化だけでは不十分です。本当の問題は熱管理です。デジタルコントローラーの指示に従い、かつ過度な負担をかけないような熱源が必要です。 そのため、私たちの多くは短波赤外線を利用しています。これなら、エネルギーをウェーハに直接送り込...

なぜ無鉛半導体の硬化に赤外線を利用するのか MEMSセンサーを製造する際、最も避けたいのは基板が汚染されることです。ウェーハは乾燥していて、清潔でなければなりません。それがあるからこそ、私たちは赤外線を利用するのです。赤外線は、煩わしい化学薬品や鉛を含む触媒を使わずに、水分や溶剤を除去できます。つ...

なぜウエハー処理において赤外線加熱が熱風加熱より優れているのか もし、従来の熱風循環方式から赤外線加熱方式に移行しようと考えているなら、それを単に「より良い装置」を手に入れるということだけでは考えないでください。むしろ、時間を節約できるという点に注目してください。 熱風加熱は遅いです。対流を利用す...

壁を加熱するのはやめて、ウェーハを効率的に加熱しましょう。 ほとんどの加熱素子は雑然としており、熱があちこちに散逸してしまいます。これは半導体製造装置内では大きな問題です。その結果、「高温の壁」ができてしまい、高価な機器の内部が損傷してしまいます。これは機器自体を危険にさらすだけでなく、機械の操作...

是非を言わせて ウェーハ処理においては、稼働時間こそが最も重要です。もしラインが停止してしまうと、すべてが止まってしまいます。それが現実です。 だからこそ、私たちはハロゲンヒーターランプを開発する際、一つの目的だけを念頭に置いています。それは、お客様のラインを常に稼働させ続けることです。当社のスペ...

リソグラフィー工程において、フォトレジストを焼成する際に2℃もの温度変動が生じると、それは単なるバラつきではなく、チップに欠陥が生じる直接の原因となります。ウェーハの乾燥や焼成処理では、メンテナンス上の基準ではなく、工程自体の熱的制約を守る必要があります。私たちは、そのような現実に合わせてウェーハ...

ファブの現場では、フォトレジストを加熱する際に0.5℃程度の温度変動があるだけで、多くのウエハが廃棄処分になってしまいます。残留水分も問題です。それによって、ウエハの表面に不均一な加熱が生じ、パターンの崩れやその他の欠陥が発生し、結果としてコストが増えてしまいます。私たちは、ウエハが加熱される部位...